VibroMet2振動拋光機(jī)可通過幾乎水平方向的振動，搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用，可去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到高質(zhì)量的拋光表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危...
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測量時無需標(biāo)距標(biāo)記、無需接觸，精度等級達(dá)到，這些特性是laserXtens激光引伸計(jì)的核心所在
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在寬的光譜范圍從190nm（深紫外）到3，500nm（近紅外）
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SENDIRA紅外光譜橢偏儀振動光譜的特點(diǎn)是傅立葉紅外光譜儀FTIR
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根據(jù)樣品成分選擇不同頻率的探頭，來測試不同衰減系數(shù)的樣品
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型號：SpecimIQ/SpecimFX17/SWIR/SpecimFX50/Fenix高光譜相機(jī)的波長范圍涵蓋可見光、近紅外及長波紅外范圍（VNIR、NIR、SWIR、MWIR和LWIR）
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凹坑研磨儀預(yù)先切薄以接近電子透明度的快速可靠的機(jī)械方法，可顯著減少離子研磨時間和薄度不均現(xiàn)象。
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型號：GVC-2000/GVC-2000P/GVC-2000TD磁控離子濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測，適配場發(fā)射/高分辨場發(fā)射電鏡；低壓大電流濺射，效率更高。
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GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀7英寸TFT觸摸屏，全數(shù)字顯示；全自動控制，一鍵式操作；4根碳繩交替工作，自動檢測通斷；連續(xù)蒸發(fā)、脈沖蒸發(fā)兩種工作模式。
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GVC-5000T 高真空多功能鍍膜儀鍍金鍍碳一體機(jī)(高真空多功能鍍膜儀)雙組件設(shè)計(jì)、防污擋板設(shè)計(jì)、 一鍵切換工作模式、鍍膜效率高、顆粒度小、可鍍所有金屬膜和ITO 導(dǎo)電膜。
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ArBlade5000 是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時樣品 加工更簡單。
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產(chǎn)品展示product
產(chǎn)品分類電鏡樣品制備
薄膜、塊體樣品制備
晶體樣品制備
粉末樣品制備
器件樣品制備
樣品處理系統(tǒng)
測試儀表
分析表征設(shè)備
測試設(shè)備
實(shí)驗(yàn)室通用輔助設(shè)備
反應(yīng)設(shè)備
17710506869
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設(shè)備介紹允許進(jìn)行多功能和創(chuàng)新的納米級熱分析√ 精確評估薄膜和微粒的導(dǎo)熱系數(shù)√ 使用三維擴(kuò)散模型揭示各向異性的熱導(dǎo)率√ 量化深層界面的熱邊界導(dǎo)熱系數(shù)√ 在微觀尺度上可視化熱性能分析
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這臺高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統(tǒng)橢偏儀，這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù)，它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù)，使得我們能夠在小至1µm的微結(jié)構(gòu)上以橢偏儀的靈敏度表征薄膜厚度和折射...
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多功能高低溫真空探針臺,電-光-氣接口齊全，應(yīng)用場景不受限?？蓪?shí)現(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制?？膳c各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測試儀、光伏測試儀、半導(dǎo)體參數(shù)測試儀、源表等聯(lián)用，特別適合介電、鐵電、...
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大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反...
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等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強(qiáng)）/ AT650T（熱型）AT650T可在用戶現(xiàn)場升級為AT650P
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小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設(shè)計(jì)，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。
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AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）
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粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
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該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使用。
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設(shè)備特點(diǎn)：$n$n脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實(shí)時測試系統(tǒng)。
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